一、碳化硅陶瓷坩埚支架产品介绍：
碳化硅陶瓷坩埚支架是由高纯度碳化硅(SiC)制成的支撑器具，具有无孔且不渗透的特性，专为高温环境设计。其主要用途是支撑坩埚，在冶金、半导体、化工等领域的高温熔炼和粉体烧结过程中发挥关键作用。
二、技术参数与性能特点
耐温性能：可长期在1600℃以上高温环境中稳定工作，短期耐温可达2700℃。
1、物理特性：
莫氏硬度9.5，仅次于金刚石。
热导率120-200 W/m·K。
热膨胀系数4.0-4.5×10⁻⁶/K。
体积密度1.5-1.6g/cm³。
2、化学特性：
优异的抗氧化和抗酸碱腐蚀性能。
对大多数熔融金属具有极强抵抗能力。
极低的本征蒸汽压和杂质含量。
使用寿命：为普通石墨坩埚的3-5倍。
三、应用领域
半导体行业：用于晶体生长和单晶硅熔炼。
冶金工业：高温熔炼和金属提纯。
化工领域：高温反应和腐蚀性介质处理。
实验室研究：高温实验和材料烧结。
四、产品特点
1、高温稳定性：在极端温度下保持结构完整性。
2、化学惰性：不与熔融物发生反应，保证材料纯度。
3、抗热震性：能承受剧烈温度波动而不开裂。
4、低释气性：在真空环境中极少释放气体。
5、高耐磨性：抵抗熔融金属冲刷和机械损伤。
支持非标定制。
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